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目前FPD所用的ITO燒成的靶材應該是單一的三氧化二銦相結構。所采用的工藝基本上是熱等靜壓和熱壓,這是目前國際上生產(chǎn)ITO靶材的主流工藝,韓國目前三星一家,其技術(shù)主要來(lái)源于日本,產(chǎn)品一部分采用STN,但主要用于TFT液晶生產(chǎn),但其產(chǎn)品仍有縫隙(空洞)。我們的鉬鈮合金靶材可以避開(kāi)這個(gè)不足。
鉬鉭合金靶材
鉬鈮合金靶材
鋯靶
鉬靶
聯(lián)系人:郭經(jīng)理
手 機:13892443361
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